2015年15nm GF將用EUV光刻技術(shù)造芯片
在最近的SemiCon West產(chǎn)業(yè)會(huì)議上, Global Foundries公司對(duì)外宣布,將會(huì)在15nm制程時(shí)開(kāi)始啟用EUV極紫外光刻技術(shù)制造半導(dǎo)體芯片。Global Foundries公司高級(jí)副總裁Greg Bartlett表示,在紐約Fab 8工廠建成之后的2012年下半年將會(huì)立刻開(kāi)始在該工程部署EUV光刻的相關(guān)設(shè)備,與此同時(shí),光刻設(shè)備廠商ASML也將會(huì)發(fā)售EUV光刻設(shè)備。
從制程工藝上來(lái)看,Global Foundries計(jì)劃在今年年底到明年年初推32nm/28nm制程的相關(guān)產(chǎn)品,兩年后將會(huì)啟用22nm制程,而再過(guò)兩年的2015年初Global Foundries將會(huì)啟用15nm制程,屆時(shí)EUV光刻技術(shù)將于15nm制程同步上線。IBM、AMD、Global Foundries等廠商一直以來(lái)對(duì)于EUV光刻技術(shù)都是相當(dāng)支持的,之前都試用過(guò)ASML公司推出的Alpha EUV光刻試驗(yàn)機(jī),所以在未來(lái)的應(yīng)用中也不會(huì)有太多的技術(shù)障礙。
從競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手方面來(lái)看,英特爾原計(jì)劃在22nm制程時(shí)啟用EUV光刻設(shè)備,因此193nm沉浸式光刻技術(shù)將會(huì)被英特爾一直沿用到15nm制程甚至11nm制程;另外臺(tái)積電方面則表示會(huì)在20nm制程時(shí)啟用EUV光刻設(shè)備。由于到2015年,晶圓的尺寸將從目前的300mm升級(jí)到450nm,這對(duì)于啟用EUV光刻技術(shù)會(huì)有什么影響呢?Global Foundries目前對(duì)于這一問(wèn)題還沒(méi)有做出任何的信息反饋。
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