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阿爾卡特朗訊 Thales與CEA-Leti聯(lián)手研發(fā)III-V半導(dǎo)體與硅材料技術(shù)

來源:融合網(wǎng)|DWRH.net 作者:吳純勇 責(zé)任編輯:admin 發(fā)表時(shí)間:2011-04-08 20:19 
核心提示:融合網(wǎng)|DWRH.net 北京時(shí)間2011年04月08日 上海消息,阿爾卡特朗訊貝爾實(shí)驗(yàn)室、Thales與CEA-Letu日前聯(lián)合宣布,CEA-Leti已加入III-V實(shí)驗(yàn)室,增強(qiáng)研發(fā)中心的產(chǎn)業(yè)研發(fā)能力,該實(shí)驗(yàn)室居于全歐洲III-V半導(dǎo)體材料研究領(lǐng)域的最前沿。

融合網(wǎng)|DWRH.net  北京時(shí)間2011年04月08日  上海消息,阿爾卡特朗訊貝爾實(shí)驗(yàn)室、Thales與CEA-Letu日前聯(lián)合宣布,CEA-Leti已加入III-V實(shí)驗(yàn)室,增強(qiáng)研發(fā)中心的產(chǎn)業(yè)研發(fā)能力,該實(shí)驗(yàn)室居于全歐洲III-V半導(dǎo)體材料研究領(lǐng)域的最前沿。

全新的公共與私人合作關(guān)系將結(jié)合III-V半導(dǎo)體與硅材料技術(shù),開創(chuàng)新的研發(fā)視角并帶來新的研發(fā)動(dòng)力。擴(kuò)充后的III-V實(shí)驗(yàn)室將擁有130多名技術(shù)研究人員及博士生。

全新的合作模式將充分發(fā)揮三家成員在硅材料、微電子及交叉整合等領(lǐng)域的全方位經(jīng)驗(yàn),在以下方面帶來顯著提升:

1、融合硅基CMOS集成電路中III-V部件所帶來的無以倫比的速度、功率及光學(xué)功能。

2、通過交叉集成有源III-V部件(光學(xué)、微波、高功率部件)與硅基集成電路及微系統(tǒng),開發(fā)具備創(chuàng)新功能的更智能、更小型化的部件。

3、生產(chǎn)基于硅基材料的III-V部件并在硅基微電子生產(chǎn)線上進(jìn)行制造,從而降低成本。

CEA-Leti是全球領(lǐng)先的微電子與納米技術(shù)研究中心,它的加入能夠進(jìn)一步增強(qiáng)III-V實(shí)驗(yàn)室的實(shí)力。III-V實(shí)驗(yàn)室成立于2004年,由阿爾卡特與Thales共同發(fā)起,能夠針對采用可雙重應(yīng)用的光電及微電子技術(shù)的通用平臺(tái)進(jìn)行快速開發(fā),滿足兩大公司的市場需求,主要涉及電信、航天、國防及安全等領(lǐng)域。CEA-Leti將帶來其IP技術(shù)及在硅材料、微電子與微系統(tǒng)以及各種交叉整合方面的經(jīng)驗(yàn),從而顯著擴(kuò)大實(shí)驗(yàn)室的研發(fā)應(yīng)用范圍。

III-V實(shí)驗(yàn)室將致力于研究整合半導(dǎo)體及硅材料潛力的實(shí)際應(yīng)用,并將重點(diǎn)專注于4大研究與市場領(lǐng)域:

1、集成光電電路,整合III-V及硅材料的有源與無源功能,實(shí)現(xiàn)高速通信與數(shù)據(jù)傳輸。

2、基于GaN微電子的高功率及微波技術(shù),旨在提升通信、航空、衛(wèi)星、國防、能源及運(yùn)輸系統(tǒng)等領(lǐng)域設(shè)備的功率密度、耐久性、能效及緊湊性。

3、全新一代高性價(jià)比、緊湊型、高靈敏且具有高選擇性的氣體傳感器,用于安全、工業(yè)流程控制及環(huán)境監(jiān)測。

4、熱成像與近紅外成像,用于安全與國防應(yīng)用。實(shí)驗(yàn)室將開發(fā)全新類型的探測器,提升分辨率的同時(shí)降低總體成本,并加速其在工業(yè)品質(zhì)控制、運(yùn)輸及環(huán)保等領(lǐng)域的應(yīng)用。

阿爾卡特朗訊貝爾實(shí)驗(yàn)室研發(fā)主管Gee Rittenhouse表示:“我們十分期待CEA-Leti的加入,其在硅材料領(lǐng)域的杰出成就將為III-V實(shí)驗(yàn)室?guī)砀嗉?dòng)人心的合作機(jī)會(huì)。III-V半導(dǎo)體已經(jīng)為光學(xué)通信領(lǐng)域帶來了重大影響,實(shí)現(xiàn)了多項(xiàng)創(chuàng)新性突破,我們計(jì)劃在未來進(jìn)一步提升整合該技術(shù)的硅基微電子平臺(tái)的性能,并降低成本與能耗。”

Thales研發(fā)與技術(shù)高級(jí)副總裁Marko Erman認(rèn)為:“作為新加入III-V實(shí)驗(yàn)室的第三家成員,Leti為我們現(xiàn)有的III-V半導(dǎo)體研究帶來了深厚的經(jīng)驗(yàn)與關(guān)鍵的硅材料技術(shù),將創(chuàng)造更多創(chuàng)新機(jī)會(huì)。得益于對具備突破性功能的全新部件的系統(tǒng)開發(fā),Thales將通過III-V實(shí)驗(yàn)室提升多方面的競爭優(yōu)勢。通過融合這些卓越的補(bǔ)充性技術(shù)并與Leti攜手,我們將成為全球領(lǐng)先的先進(jìn)設(shè)備研發(fā)中心。”

Leti CEO Laurent Malier表示:“此次攜手開創(chuàng)了一種獨(dú)特的合作模式,將融合各方的能力、技術(shù)及理想,實(shí)現(xiàn)各合作方難以獨(dú)立獲得的新成就。各合作方均帶來了卓越的具有互補(bǔ)性的專業(yè)技術(shù)與經(jīng)驗(yàn),將攜手實(shí)現(xiàn)我們的共同目標(biāo)。而且,各方還將充分利用這些研發(fā)成果將最新技術(shù)轉(zhuǎn)化為帶給我們客戶的價(jià)值與收益。全新III-V實(shí)驗(yàn)室將成為價(jià)值創(chuàng)新的不竭源泉。”

III-V實(shí)驗(yàn)室位于巴黎南部,將成為Paris Sud Saclay項(xiàng)目的核心組成部分,該項(xiàng)目旨在建設(shè)一個(gè)大型科學(xué)技術(shù)園區(qū),包括研發(fā)機(jī)構(gòu)、大學(xué)、精英學(xué)院及公司企業(yè)等。(責(zé)任編輯:admin)

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