EUV光刻技術或助力芯片突破摩爾定律

來源：hc360　作者：佚名　責任編輯：admin　發(fā)表時間:2013-11-09 14:11　

核心提示：摩爾定律的延續(xù)已成為一個巨大挑戰(zhàn)，英特爾CEOBrianKrzanich給出的解決方案是——一種新的技術extremeultravioletlithography(EUV，極紫外線光刻技術)，可以幫助英特爾繼續(xù)做出更小、更快、更高效的芯片。不幸的是，這說起來容易做起來難。

據(jù)美國科技博客Business Insider報道，在近50年的科技發(fā)展中，技術變革的速度一直遵循著摩爾定律。一次又一次的質疑聲中，英特爾堅定不移地延續(xù)著摩爾定律的魔力。

摩爾定律是由英特爾聯(lián)合創(chuàng)始人GordonMoore提出，內(nèi)容為：當價格不變時，集成電路上可容納的晶體管數(shù)目，約每隔18個月便會增加一倍，性能也將提升一倍。換言之，每一美元所能買到的電腦性能，將每隔18個月翻兩倍以上。這一定律揭示了信息技術進步的速度。

在幾十年來，芯片技術得以快速變革和發(fā)展，變得更加強大，節(jié)省了更多的空間和資源，這也使得電腦的速度成倍地變快、體積成倍地變小。

但有些物理專家表示，除非有某種技術的突破才能突破摩爾定律的限制。今天，英特爾等芯片廠商通過量子力學技術能夠在尖端芯片上擺放數(shù)十億個微處理器。

摩爾定律的延續(xù)已成為一個巨大挑戰(zhàn)，英特爾CEOBrianKrzanich給出的解決方案是——一種新的技術extremeultravioletlithography(EUV，極紫外線光刻技術)，可以幫助英特爾繼續(xù)做出更小、更快、更高效的芯片。不幸的是，這說起來容易做起來難。

荷蘭微影設備大廠ASML在2009年就公布了EUV光刻技術，但一直未有顯著的進展，為推動該技術的研發(fā)，在去年的夏天英特爾向其注資41億美元。

雖然在芯片創(chuàng)新的路上存在無數(shù)的挑戰(zhàn)和障礙，但是英特爾一直沒有停止過自己的腳步：上月中旬，英特爾在IDF上展示了在PC上運行的14nmBroadwellCPU。日前，英特爾CEO稱，由于生產(chǎn)問題，下一代Broadwell處理器將被推遲至明年發(fā)布。

另外，英特爾計劃在2015年采用10nm的晶體管，而到了2017年達到7nm，這些都是出奇的小。相比較而言，人身上的血細胞是7000nm，而一個DNA鏈為2.5nm。

英特爾目前還未過多的談論EUV光刻技術，可能涉及競爭的原因等，但是，如果該技術被得以大范圍采用并推向市場，那么7nm芯片等都也將成為可能。

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